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阻垢剂正确加药的必要条件
阻垢剂在加药前必须具备以下几个条件：
原水详细水质分析（详细的水质分析报告是前提）； 反渗透运行系统参数（RO系统温度、回收率、排列方式、水通量等是重要的参数）； 专用计算机模拟软件（Ochemate的药剂选择和加药量的控制需要采用专用的 Ochemate计算软件进行计算和选择）。
一般情况下，阻垢剂加药点在保安过滤器前，这能使药剂在进入反渗透模块前得到充分的混合分散。阻垢剂的混合不均匀会使反渗透产生轻微或严重结垢现象在两套或多套并列运行且阻垢剂采用母管投加时极易出现偏流现象，应使用管道混合器。
所有反渗透专用药剂Ochemate建议用户原液投加，过度稀释易使阻垢剂受到细菌、微生物的污染造成反渗透系统结垢。如果需要稀释以后投加，请注意环境的温度和稀释程度的限制。一般情况下，温度低于30℃，稀释程不低于10%，当温度在30至35℃之间，稀释程度不低于25%，当温度高于35℃，药剂稀释程度不能低于50%，如果加药泵的扬程与药剂稀释要求不匹配，请考虑更换加药泵或者每天对加药剂进行稀释及投加。
最大允许二氧化硅的浓度取决于温度、pH值以及阻垢剂，通常在不加阻垢剂时浓水端最高允许浓度为100mg/l，某些阻垢剂能允许浓水中的二氧化硅浓度最高为240mg/l，请咨询阻垢剂供应商。
水中硅以两种形态存在，活性硅（单体硅）和胶体硅（多元硅）：胶体硅没有离子的特征，但尺度相对较大，胶体硅能被精细的物理过滤过程所截留，如反渗透，也可以通过凝聚技术降低水中的含量，如混凝澄清池，但是那些需要依靠离子电荷特征的分离技术，如离子交换树脂和连续电去离子过程（EDI），对脱除胶体硅效果十分有限。活性硅的尺寸比胶体硅小得多，这样大多数的物理过滤技术如混凝澄清、过滤和气浮等均无法脱除活性硅，能够有效脱除活性硅的过程是反渗透、离子交换和连续电去离子过程。
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